剝膜機

功能

以化學藥水完全除去基板上的光阻劑，將蝕刻刻的金屬膜層或ITO膜層，完全裸露出來

設備尺寸

依客戶現場Layout及製程需求設計

特點

提供G2-G6基板

使用標準設計為噴灑、風切、剝膜、風切、水洗、CDA吹乾；特殊的噴嘴排列，提供穩定的剝膜藥水，迅速的洗去光阻劑；並可依客戶需求，選配毛刷、AB TANK換藥系統、水刀、藥刀及防爆系統等，以滿足客戶供不同的剝膜方案產速、噴壓可調整設計